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 報(bào)告題目：等離子體納米涂層制備技術(shù)及應(yīng)用

 報(bào)告時(shí)間：2023年9月21日（星期四）14:00-16:00

 報(bào)告地點(diǎn)：材料與冶金學(xué)院523會(huì)議室

 主辦單位：材料與冶金學(xué)院

 報(bào) 告 人：周艷文

 報(bào)告人簡(jiǎn)介：周艷文，1966年4月出生，英國(guó)索爾福德大學(xué)表面工程專(zhuān)業(yè)博士，2005年入職材料與冶金學(xué)院，教授。主要從事微、納材料的功能化及表面改性研究。先后獲得國(guó)家自然科學(xué)基金資助6項(xiàng)，遼寧省優(yōu)秀人才項(xiàng)目、遼寧省科技廳重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室項(xiàng)目等多項(xiàng)科研項(xiàng)目，并帶領(lǐng)團(tuán)隊(duì)獲批4項(xiàng)國(guó)家自然科學(xué)基金。在《Applied Surface Science》《Journal of Alloys and Compounds》《Surface & Coatings Technology》等期刊上共發(fā)表SCI等檢索論文100余篇，發(fā)明專(zhuān)利10余項(xiàng)。

 報(bào)告內(nèi)容簡(jiǎn)介：磁控濺射技術(shù)是一種利用電磁場(chǎng)來(lái)控制真空腔體內(nèi)氣體“異常輝光放電”中離子、電子的運(yùn)動(dòng)軌跡及分布狀況的濺射鍍膜的物理氣相沉積技術(shù)，其具有沉積溫度低、沉積速度快、所沉積的薄膜均勻性好，成分接近靶材成分等眾多優(yōu)點(diǎn)。等離子體增強(qiáng)磁控濺射技術(shù)（PEMS）引入熱絲作為電子源，能夠增加磁控濺射系統(tǒng)中的等離子體密度，從而控制沉積薄膜或涂層的結(jié)構(gòu)，報(bào)告人以等離子體密度為切入點(diǎn)，介紹等離子體密度對(duì)于功能涂層的結(jié)構(gòu)、性能的影響，并展示等離子體納米涂層的應(yīng)用成果。